Untersuchung der mikrofluidischen Galvanik zur Herstellung von magnetfeldsensitiven Schichten und deren Eigenschaften

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Copyright year: 2020
ISBN-Online: 978-3-95900-494-7
Publisher: TEWISS, Garbsen
Series: Berichte aus dem IMPT
Volume: 01/2020
Language: German
Pages: 131
Product type: Book Titles

ChapterPages

1. Vorwort No access
2. Kurzfassung No access
3. Abstract No access
4. Inhaltsverzeichnis No access
5. Formelzeichen und Abkürzungen No access
1 Einleitung No access
1. 2.1 Entwicklungen und Einsatz von integrierten Leitungsträgern No access
2. 2.2 Einführung in die Elektrochemie No access
3. 2.3 Strömungsmechanische Grundlagen No access
4. 2.4 Einführung in die Kristallographie No access
5. 2.5 Einführung in den Magnetismus No access
6. 2.6 Magnetische Anisotropien und deren Nutzung No access
1. 3.1 Das Konzept der mikrofluidischen Galvanik No access
2. 3.2 Vorarbeiten zur Validierung der Eignung des Verfahrens No access
4 Aufgabenstellung und Zielsetzung No access
1. 5.1 Messtechnik zur Messung äußerer Merkmale No access
2. 5.2 Messtechnik zur Messung intrinsischer Eigenschaften No access
1. 6.1 Modellierung des Abscheidevorgangs No access
2. 6.2 Aufbau der Sensorstruktur No access
3. 6.3 Modellierung des Feldes No access
4. 6.4 Modellierung der Strömung No access
5. 6.5 Analytische Modellierung der Abscheidung No access
6. 6.6 Zusammenfassung der Modellierung und resultierender Parameterraum No access
1. 7.1 Herstellung des mikrofluidischen Kanals No access
2. 7.2 Präparation der Substrate No access
3. 7.3 Abscheideversuche im mikrofluidischen Kanal No access
4. 7.4 Messstellen entlang der Kanalgeometrie No access
5. 7.5 Abscheidung im Magnetfeld No access
6. 7.6 Ätzen der Startschicht No access
7. 7.7 Kontaktierung der Proben No access
8. 7.8 Vergießen der Sensorelemente No access
1. 8.1 Zusammensetzung EDX No access
2. 8.2 Grundwiderstände und Schichthöhen auf Silizium No access
3. 8.3 Schichtrauheit auf Silizium No access
4. 8.4 R-H-Kurven auf Silizium No access
5. 8.5 Kerrmikroskopische Untersuchungen auf Silizium No access
6. 8.6 XRD-Analyse auf Silizium No access
7. 8.7 Ableitung geeigneter Prozessparameter No access
8. 8.8 Grundwiderstände und Schichtrauheit auf dem ABS-Substrat No access
9. 8.9 R-H-Kurven auf ABS No access
10. 8.10 Kerrmikroskopische Untersuchungen auf dem ABS-Substrat No access
11. 8.11 XRD-Analyse auf ABS No access
1. 9.1 Homogenität der abgeschiedenen Schicht No access
2. 9.2 Einfluss des Magnetfeldes auf das Sensorverhalten No access
3. 9.3 Einfluss der Schichtdicke auf das Sensorverhalten No access
4. 9.4 Einfluss des Substrates auf das Sensorverhalten No access
5. 9.5 Vergleich der Sensorkennwerte mit Literaturwerten No access
10 Zusammenfassung und Ausblick No access
11 Literaturverzeichnis No access
Anhang A No access
Anhang B No access
Anhang C No access