Untersuchung der mikrofluidischen Galvanik zur Herstellung von magnetfeldsensitiven Schichten und deren Eigenschaften

Zusammenfassung

In dieser Dissertation wird ein neuartiger Fertigungsansatz für die Realisierung anisotroper magnetoresistiver (AMR) Sensoren vorgestellt. Diese werden mit einem galvanischen Prozess in einem mikrofluidischen Kanal abgeschieden. Hierdurch wird der Einsatz von fotolithografischen Prozessschritten vermieden und die eingesetzten Elektrolytvolumina gering gehalten. Die Sensoren können lokal auf Bauteiloberflächen, auch in Aussparungen abgeschieden werden. Der magnetoresistive Koeffizient der abgeschiedenen Sensorschichten variiert prozessbedingt zwischen 1,4 % und 1,9 %. Durch kerrmikroskopischen Untersuchungen der abgeschiedenen Sensorschichten wird die jeweilige Sensorcharakteristik, auf verschiedenen Subtraten und bei variierenden Prozessbedingungen, mit der jeweiligen Domänenstruktur in den sensitiven Schichten korreliert.

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Bibliographische Angaben

Copyrightjahr: 2020
ISBN-Online: 978-3-95900-494-7
Verlag: TEWISS, Garbsen
Reihe: Berichte aus dem IMPT
Band: 01/2020
Sprache: Deutsch
Seiten: 131
Produkttyp: Monographie

Inhaltsverzeichnis

KapitelSeiten

1. Vorwort Kein Zugriff
2. Kurzfassung Kein Zugriff
3. Abstract Kein Zugriff
4. Inhaltsverzeichnis Kein Zugriff
5. Formelzeichen und Abkürzungen Kein Zugriff
1 Einleitung Kein Zugriff
1. 2.1 Entwicklungen und Einsatz von integrierten Leitungsträgern Kein Zugriff
2. 2.2 Einführung in die Elektrochemie Kein Zugriff
3. 2.3 Strömungsmechanische Grundlagen Kein Zugriff
4. 2.4 Einführung in die Kristallographie Kein Zugriff
5. 2.5 Einführung in den Magnetismus Kein Zugriff
6. 2.6 Magnetische Anisotropien und deren Nutzung Kein Zugriff
1. 3.1 Das Konzept der mikrofluidischen Galvanik Kein Zugriff
2. 3.2 Vorarbeiten zur Validierung der Eignung des Verfahrens Kein Zugriff
4 Aufgabenstellung und Zielsetzung Kein Zugriff
1. 5.1 Messtechnik zur Messung äußerer Merkmale Kein Zugriff
2. 5.2 Messtechnik zur Messung intrinsischer Eigenschaften Kein Zugriff
1. 6.1 Modellierung des Abscheidevorgangs Kein Zugriff
2. 6.2 Aufbau der Sensorstruktur Kein Zugriff
3. 6.3 Modellierung des Feldes Kein Zugriff
4. 6.4 Modellierung der Strömung Kein Zugriff
5. 6.5 Analytische Modellierung der Abscheidung Kein Zugriff
6. 6.6 Zusammenfassung der Modellierung und resultierender Parameterraum Kein Zugriff
1. 7.1 Herstellung des mikrofluidischen Kanals Kein Zugriff
2. 7.2 Präparation der Substrate Kein Zugriff
3. 7.3 Abscheideversuche im mikrofluidischen Kanal Kein Zugriff
4. 7.4 Messstellen entlang der Kanalgeometrie Kein Zugriff
5. 7.5 Abscheidung im Magnetfeld Kein Zugriff
6. 7.6 Ätzen der Startschicht Kein Zugriff
7. 7.7 Kontaktierung der Proben Kein Zugriff
8. 7.8 Vergießen der Sensorelemente Kein Zugriff
1. 8.1 Zusammensetzung EDX Kein Zugriff
2. 8.2 Grundwiderstände und Schichthöhen auf Silizium Kein Zugriff
3. 8.3 Schichtrauheit auf Silizium Kein Zugriff
4. 8.4 R-H-Kurven auf Silizium Kein Zugriff
5. 8.5 Kerrmikroskopische Untersuchungen auf Silizium Kein Zugriff
6. 8.6 XRD-Analyse auf Silizium Kein Zugriff
7. 8.7 Ableitung geeigneter Prozessparameter Kein Zugriff
8. 8.8 Grundwiderstände und Schichtrauheit auf dem ABS-Substrat Kein Zugriff
9. 8.9 R-H-Kurven auf ABS Kein Zugriff
10. 8.10 Kerrmikroskopische Untersuchungen auf dem ABS-Substrat Kein Zugriff
11. 8.11 XRD-Analyse auf ABS Kein Zugriff
1. 9.1 Homogenität der abgeschiedenen Schicht Kein Zugriff
2. 9.2 Einfluss des Magnetfeldes auf das Sensorverhalten Kein Zugriff
3. 9.3 Einfluss der Schichtdicke auf das Sensorverhalten Kein Zugriff
4. 9.4 Einfluss des Substrates auf das Sensorverhalten Kein Zugriff
5. 9.5 Vergleich der Sensorkennwerte mit Literaturwerten Kein Zugriff
10 Zusammenfassung und Ausblick Kein Zugriff
11 Literaturverzeichnis Kein Zugriff
Anhang A Kein Zugriff
Anhang B Kein Zugriff
Anhang C Kein Zugriff