, to see if you have full access to this publication.
Book Titles Partial access
Elektromigration und deren Berücksichtigung beim zukünftigen Layoutentwurf digitaler Schaltungen
- Authors:
- Series:
- Elektronik/Mikro- und Nanotechnik, Volume 395
- Publisher:
- 2017
Keywords
Search publication
Bibliographic data
- Copyright year
- 2017
- ISBN-Print
- 978-3-18-339509-5
- ISBN-Online
- 978-3-18-639509-2
- Publisher
- VDI Verlag, Düsseldorf
- Series
- Elektronik/Mikro- und Nanotechnik
- Volume
- 395
- Language
- German
- Pages
- 150
- Product type
- Book Titles
Table of contents
ChapterPages
- Titelei/Inhaltsverzeichnis Partial access Pages I - X Download chapter (PDF)
- Entwicklung der Halbleitertechnologie No access
- Entwicklung bei Leitbahnen No access
- Motivation No access
- Allgemeines zur Elektromigration No access
- Möglichkeiten der Quantifizierung No access
- Einflussgrößen No access
- Kristallstruktur und Diffusionsmechanismen No access
- Barrieren bei Kupfermetallisierungen No access
- Einfluss durch mechanische Spannungen No access
- Zusammenspiel der Migrationsarten No access
- Frequenzabhängigkeit der EM No access
- Einordnung in den Layoutentwurf No access
- Besonderheiten des digitalen Layoutentwurfs No access
- Berücksichtigung von EM im digitalen Layoutentwurf No access
- Hintergrund und Fragestellungen No access
- Einordnung der Arbeit in den Gesamtkontext No access
- Mooresches Gesetz und Roadmap ITRS No access
- Verhinderung von EM-Schäden No access
- Übersicht über die Methoden No access
- Physikalischer Hintergrund No access
- Anwendung No access
- Physikalischer Hintergrund No access
- Bedeutung für Technologie und Entwurf No access
- Grundlagen No access
- Parameter No access
- Vergleich mit aktuellen Technologien No access
- Anwendung No access
- Grundlagen No access
- Quellen und Senken No access
- Erscheinungsformen No access
- Anwendung No access
- Grundlagen No access
- Stromverteilung No access
- Reservoire No access
- Bedeutung der geometrischen Anordnung No access
- Aktuelle Bedeutung redundanter Vias No access
- Parameter und Hinweise zur Anwendung bei EM No access
- Selbstheilung und steigende Frequenzen No access
- Konsequenzen No access
- Leiterwerkstoff No access
- Dielektrikum No access
- Barriere No access
- Kohlenstoffbasierte Lösungen No access
- Eigenschaften der CNT No access
- Auswirkungen auf den zukünftigen Layoutentwurf No access
- Zusammenfassung No access
- Stromdichtesimulation mit Finiten Elementen No access
- Besonderheiten herkömmlicher Technologien No access
- Simulation neuer Technologien No access
- Versuchsmethoden der experimentellen Validierung No access
- Längeneffekte No access
- Reservoire No access
- Kohlenstoffnanoröhren No access
- Zusammenfassung No access
- Zusammenfassung der Arbeit No access
- Ausblick: Bibliothek robuster Layoutelemente No access
- Ausblick: Nutzung von neuen Technologien No access
- Zukünftige Nutzung der Ergebnisse No access
- Glossar No access Pages 132 - 133
- Literaturverzeichnis No access Pages 134 - 150





