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Book Titles Partial access

Inkjet-Druckprozess für die Fertigung von Strukturen zur photoaktivierten Wasserspaltung

Authors:
Publisher:
 2017

Keywords



Bibliographic data

Copyright year
2017
ISBN-Print
978-3-18-339409-8
ISBN-Online
978-3-18-639409-5
Publisher
VDI Verlag, Düsseldorf
Series
Elektronik/Mikro- und Nanotechnik
Volume
394
Language
German
Pages
158
Product type
Book Titles

Table of contents

ChapterPages
  1. Titelei/Inhaltsverzeichnis Partial access Pages I - XII Download chapter (PDF)
  2. Einleitung No access Pages 1 - 6
    1. Funktioneller Tintenstrahldruck No access
    2. Photoelektrochemische Zelle No access
      1. Ziele No access
      2. Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
      3. Druckbarkeitsversuche für reine Flüssigkeiten No access
      4. Erweiterung des klassischen Modells für stabilisierte Dispersionen No access
      1. Ziele No access
      2. Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
      3. Photometrische Sedimentationsanalyse No access
      4. Impedanzbasierte Sedimentationsanalyse No access
      5. Entwicklung eines bildbasierten Verfahrens zur Sedimentationsanalyse No access
      1. Ziele No access
      2. Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
      3. Benetzung von leitfähigen Gläsern No access
      4. Steuerung des Kontaktwinkels No access
      1. Ziele No access
      2. Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
      3. Steuerung der Schichthöhe über den Feststoffgehalt No access
      1. Ziele No access
      2. Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
      3. Einfluss der Oberflächenmodifizierung auf die Tintenrheologie No access
      1. Ziele No access
      2. Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
      3. Coffee-Ring-Effect und Einfluss der Substratbeheizung No access
      4. Marangoni-Konvektion bei binären Lösungsmittelgemischen No access
      1. Ziele No access
      2. Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
      3. Minimierung der Schichthöhe No access
      1. Ziele No access
      2. Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
      3. Temperaturverhalten der Leitfähigkeit dünner poröser Hämatitschichten No access
      4. Volumenschwund und Leitfähigkeit in Abhängigkeit vom Sinterfortschritt No access
      5. Entwicklung eines bildbasierten Haftfestigkeitstests No access
      1. Inkjet-Versuchsstand No access
      2. Charakterisierung der Photoelektroden No access
      1. Nachbehandlung durch Sintern bei 500 °C No access
      2. Nachbehandlung durch Sintern unter Sauerstoffatmosphäre No access
      3. Vorbehandlung der funktionellen Partikel No access
      4. Nachbehandlung durch Sintern bei 800 °C No access
      1. Polymerische Stabilisierung des Trägerfluides No access
      2. Trägerfluid als höherviskoses binäres Gemisch No access
      3. Herstellung durch mehrschichtigen Druck No access
      4. Photoaktive Schicht auf Titansubstrat No access
    1. Photoelektroden auf Basis von oberflächenmodifizierten Partikeln No access
    1. Potential zur Erhöhung der freien Oberfläche No access
      1. Berechnung über die Festlegung der gewünschten Stoffeigenschaften No access
      2. Heuristische Bestimmung geeigneter Zusammensetzungen No access
      1. Aufbau der aktiven Schicht durch einzelne Spots No access
      2. Realisierung einer hohen Oberfläche No access
      1. Freiliegende einzelne Spots No access
      2. Überlagerung der einzelnen Spots No access
    1. Materialparameter No access
    2. Messergebnisse No access
    3. Herleitung der verwendeten theoretischen Modelle No access
  3. Literaturverzeichnis No access Pages 140 - 158