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Book Titles Partial access
Inkjet-Druckprozess für die Fertigung von Strukturen zur photoaktivierten Wasserspaltung
- Authors:
- Series:
- Elektronik/Mikro- und Nanotechnik, Volume 394
- Publisher:
- 2017
Keywords
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Bibliographic data
- Copyright year
- 2017
- ISBN-Print
- 978-3-18-339409-8
- ISBN-Online
- 978-3-18-639409-5
- Publisher
- VDI Verlag, Düsseldorf
- Series
- Elektronik/Mikro- und Nanotechnik
- Volume
- 394
- Language
- German
- Pages
- 158
- Product type
- Book Titles
Table of contents
ChapterPages
- Titelei/Inhaltsverzeichnis Partial access Pages I - XII Download chapter (PDF)
- Einleitung No access Pages 1 - 6
- Funktioneller Tintenstrahldruck No access
- Photoelektrochemische Zelle No access
- Ziele No access
- Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
- Druckbarkeitsversuche für reine Flüssigkeiten No access
- Erweiterung des klassischen Modells für stabilisierte Dispersionen No access
- Ziele No access
- Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
- Photometrische Sedimentationsanalyse No access
- Impedanzbasierte Sedimentationsanalyse No access
- Entwicklung eines bildbasierten Verfahrens zur Sedimentationsanalyse No access
- Ziele No access
- Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
- Benetzung von leitfähigen Gläsern No access
- Steuerung des Kontaktwinkels No access
- Ziele No access
- Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
- Steuerung der Schichthöhe über den Feststoffgehalt No access
- Ziele No access
- Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
- Einfluss der Oberflächenmodifizierung auf die Tintenrheologie No access
- Ziele No access
- Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
- Coffee-Ring-Effect und Einfluss der Substratbeheizung No access
- Marangoni-Konvektion bei binären Lösungsmittelgemischen No access
- Ziele No access
- Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
- Minimierung der Schichthöhe No access
- Ziele No access
- Physikalische Grundlagen und Stand der Technik No access
- Temperaturverhalten der Leitfähigkeit dünner poröser Hämatitschichten No access
- Volumenschwund und Leitfähigkeit in Abhängigkeit vom Sinterfortschritt No access
- Entwicklung eines bildbasierten Haftfestigkeitstests No access
- Inkjet-Versuchsstand No access
- Charakterisierung der Photoelektroden No access
- Nachbehandlung durch Sintern bei 500 °C No access
- Nachbehandlung durch Sintern unter Sauerstoffatmosphäre No access
- Vorbehandlung der funktionellen Partikel No access
- Nachbehandlung durch Sintern bei 800 °C No access
- Polymerische Stabilisierung des Trägerfluides No access
- Trägerfluid als höherviskoses binäres Gemisch No access
- Herstellung durch mehrschichtigen Druck No access
- Photoaktive Schicht auf Titansubstrat No access
- Photoelektroden auf Basis von oberflächenmodifizierten Partikeln No access
- Potential zur Erhöhung der freien Oberfläche No access
- Berechnung über die Festlegung der gewünschten Stoffeigenschaften No access
- Heuristische Bestimmung geeigneter Zusammensetzungen No access
- Aufbau der aktiven Schicht durch einzelne Spots No access
- Realisierung einer hohen Oberfläche No access
- Freiliegende einzelne Spots No access
- Überlagerung der einzelnen Spots No access
- Materialparameter No access
- Messergebnisse No access
- Herleitung der verwendeten theoretischen Modelle No access
- Literaturverzeichnis No access Pages 140 - 158





