Neue Verfahrenstechniken für MEMS–Niederdruckmesszellen auf Siliziumbasis

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Cover der Ausgabe: Konstruktion Jahrgang 77 (2025), Heft 06
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Organ der VDI-Gesellschaften Produkt- und Prozessgestaltung (VDI-GPP) und Materials Engineering (VDI-GME)

Jahrgang 77 (2025), Heft 06


Autor:innen:
, ,
Verlag
VDI fachmedien, Düsseldorf
Erscheinungsjahr
2025
ISSN-Online
0720-5953
ISSN-Print
0720-5953

Kapitelinformationen


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Neue Verfahrenstechniken für MEMS–Niederdruckmesszellen auf Siliziumbasis


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Mikroelektronische Drucksensoren auf Siliziumbasis sind seit Jahren in großen Mengen im Einsatz und haben sich zu Standardprodukten entwickelt. Niederdrucksensoren für Drücke unter 10 mbar werden allerdings nur von wenigen Unternehmen angeboten. Das resultiert aus der Problematik von höchster Druckempfindlichkeit einerseits und nachhaltiger Vermeidung intrinsischer Störungen andererseits, die den Herstellungsaufwand erhöht. Die Lösung liegt in einer Kombination neuester Techniken wie reaktivem Ionenätzen (DRIE), Rückseitenstrukturierung und Fusion-Bonding.

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